近年来,随着科技的不断发展,越来越多的技术被应用到各个领域中。其中,等离子放电原理技术在表面微观整平领域发挥着重要作用。利用这一技术,可以让放电通道更多地是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,从而达到表面微观整平的效果。抛光开始阶段,粗糙度下降速度较快,但随着抛光时间的延长,该趋势逐渐减弱。通过分析离子放电原理,探究其对微观凸起位置材料的优先去除效果。研究表明,在抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,离子在凸起处更加集中,放电通道更多地选择在凸起的位置形成,从而使粗糙度下降速度较快。但随着抛光时间的延长,样件凹凸不平的状态得到改善,放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱,从而使粗糙度下降的速度减小。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,但是在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正点的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
随着环保意识日渐加强,传统抛光工艺已难以满足行业对、绿色环保、低成本生产的要求。倍亮抛光等离子系列为行业提供了一个、环保的表面优化解决方案。精细小的产品,采用传统方式抛光,效率底,效果差,而且容易变形。采用等离子电浆抛光机可以对1MM以上的产品进行抛光,而且采用制具,不存在任何变形。 离子抛光又称为“纳米抛光”,是目前行业广为应用的抛光工艺。采用液态电打磨原理,在特定的浴液中将工件置于阳极。在适温环境下,溶液中产生能量巨大的等离子态,当等离子与工件摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果,实现纳米级的材料去除。是抛光行业内的福音。
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